半導体装置用高精度磁石

最先端のデュアルステージ極端紫外線（EUV）リソグラフィープラットフォーム向けに、高精度磁石を新たに開発しました。このプラットフォームは、高度な集積回路製造装置の高度な組み立て工程における重要なコンポーネントです。この装置の精度は、半導体チップの集積度と性能を決定づける重要な要素です。システムの中心となるのは、超高精度で移動量が大きく、2次元平面磁気浮上ステージです。このステージは、機能性と精度の礎となっています。

この最先端のアプリケーションでは、従来の製造基準を超える要件が求められ、これらのプラットフォームに使用される磁石には厳しい要件が課せられます。超高寸法精度、優れた磁気性能、耐腐食コーティング、完璧な外観といった仕様は譲れないため、磁石の精密加工、製造、検査は非常に困難な作業となります。

半導体用途における精密磁石の特殊な要件を深く理解することで、当社はこれらの部品を極めて安定的に大量供給することが可能となりました。コンサルティング設計、ラピッドプロトタイピング、そして量産まで、包括的なカスタマイズサービスを提供し、このハイテク分野におけるお客様の細かなニーズにお応えします。